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高纯Au、Ag、Pt、Ru 贵金属及其合金溅射靶材是半导体PVD工艺制程中的溅射源材料,广泛用于半导体制造工艺中,成为保证半导体器件性能和发展半导体技术必不可少及不可替代的材料.本文阐述了高纯贵金属靶材的应用。阐述了高纯贵金属靶材的制备技术。探讨了对贵金属靶材的循环回收利用。
高纯贵金属靶材在半导体制造中的应用与制备技术
【摘 要】
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高纯Au、Ag、Pt、Ru 贵金属及其合金溅射靶材是半导体PVD工艺制程中的溅射源材料,广泛用于半导体制造工艺中,成为保证半导体器件性能和发展半导体技术必不可少及不可替代的材
【机 构】
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北京有色金属研究总院有研亿金新材料股份有限公司,北京102200
【出 处】
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2013年中国贵金属研讨会
【发表日期】
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2013年11期
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