膜去溶剂化进样ICP—MS法直接测定电子级高纯过氧化氢中痕量金属杂质

来源 :化学试剂 | 被引量 : 0次 | 上传用户：junjiec

【摘要】

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用ARIDUS膜去溶剂化进样器,在ICP-MS的标准状态(STD)和冷焰状态(PS)测定电子级高纯过氧化氢中的34个痕量金属杂质,用铟作内标可补偿基体效应,方法检出限为0.1～70ng/L,加标回收

【作者】

：

孟蓉李红华黄志齐童淑丽

【机构】

：

北京化学试剂研究所

【出处】

：

化学试剂

【发表日期】

：

2002年4期

【关键词】

：

直接测定金属杂质电子级高纯过氧化氢 ICP-MS 膜去溶剂化进样痕量分析 ICPMSelectronic grade high purity hydrog

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用ARIDUS膜去溶剂化进样器,在ICP-MS的标准状态(STD)和冷焰状态(PS)测定电子级高纯过氧化氢中的34个痕量金属杂质,用铟作内标可补偿基体效应,方法检出限为0.1～70ng/L,加标回收率为90%～110%,长时间相对标准偏差(RSD)小于5%,ICP-MS测定结果与ICP光谱测定结果基本一致,ICP-MS提高了分析的准确性和工作效率.

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