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设在德州奥斯汀的TEL美国总部日前推出用于先进薄膜淀积的IRad，一种300mm等离子增强批处理热化学汽相淀积（CVD）系统。IRad系统是基于全面的经生产验证的TEL FORMULATM装料尺寸可变的反应器设计基础之上开发研制出的。
TEL推出等离子增强型批处理热CVD系统
【摘 要】
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设在德州奥斯汀的TEL美国总部日前推出用于先进薄膜淀积的IRad，一种300mm等离子增强批处理热化学汽相淀积（CVD）系统。IRad系统是基于全面的经生产验证的TEL FORMULATM装料尺寸可
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2005年8期
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