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为了建立厚度为1nm左右HfO2超薄膜的光谱椭偏测量方法，采用掠入射X射线反射技术进行国家／地区实验室间比对认证，其膜厚准确量值作为参比值，建立了HfO2超薄膜的光谱椭偏结构拟合模型。研究了HfO2超薄膜的光谱椭偏色散模型和拟合参数，最后确定了拟合色散模型为Tauc—Lorentz3，拟合光谱范围为3．45～4．35eV，表面污染层孔隙比例为60：40。