富氧氮氧化硅薄膜退火的研究

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利用红外吸收(IR)谱和X射线光电子谱(XPS)对富氧氮氧化硅(oXygen-rich SiOxNy)及其在600、750和900℃下退火后样品的微结构进行了研究。实验中除观察到N、H的释放外,首次发现退火会导致SiOxNy中O的释放,同时还发现退火温度不同,H、O、N元素的释放量以及微结构的变化都不相同,根据这些现象,提出了5个化学反应过程并予以解释。
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