用于先进的双嵌入和栓工艺的低缺陷钨GMP高性价比浆料

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【摘要】

：

介绍了用于钨双嵌入和钨栓CMP工艺的新型CMP3200TM氧化铝浆料,测试证明,这种浆料在110 nm技术节点的钨CMP工艺应用中取得了理想的效果.通过对氧化铝粒子制造工艺的有效控制,

【作者】

：

Tun-Yan Lo LI Chung-Liu CHIN Hung-Chang Simon J.Kirk Philippe Chelle Arai Peng

【出处】

：

电子工业专用设备

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

钨双嵌入工艺钨栓工艺 CMP浆料高性价比低缺陷率 110nm技术节点 W Damascene Processes W Plugs Processes CM

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介绍了用于钨双嵌入和钨栓CMP工艺的新型CMP3200TM氧化铝浆料,测试证明,这种浆料在110 nm技术节点的钨CMP工艺应用中取得了理想的效果.通过对氧化铝粒子制造工艺的有效控制,获得了可满足110 nm技术节点双嵌入和栓层钨CMP工艺要求的低缺陷率,高性价比的氧化铝/硝酸铁浆料.从而在价格竞争激烈的半导体制造领域,特别是代工市场引起了业界越来越多的关注.

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