一种提高多孔硅发光稳定性的有效方法

来源 :长沙水电师院学报：自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：cywxp

【摘要】

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报道了对多孔硅进行后处理的一种新方法,即真空中微波等离子体辅助的硫钝化处理.傅里叶变换红外谱表明,经处理的样品表面主要是被SiSx和SiOy所覆盖,与未经处理的样品相比,其

【作者】

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史向华刘小兵

【机构】

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长沙电力学院物理与信息工程系

【出处】

：

长沙水电师院学报：自然科学版

【发表日期】

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2001年2期

【关键词】

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钝化处理微波等离子体稳定性多孔硅发光强度 passivation microwaveplasma stabilization SiSx SiOy

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报道了对多孔硅进行后处理的一种新方法,即真空中微波等离子体辅助的硫钝化处理.傅里叶变换红外谱表明,经处理的样品表面主要是被SiSx和SiOy所覆盖,与未经处理的样品相比,其发光强度增加约3.5倍,PL峰蓝移了40 nm,而且在空气条件下存放60d后发光强度没有变化.表明这种方法是增加多孔硅发光强度和提高稳定性的有效方法之一.

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