【摘 要】
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以交替真空溅射的方法使用成分分别为MnFe2O4与ZnFe2O4的双靶制备了成分变化的系列Mn1-xZnxFe2O4铁氧体薄膜,衬底为Si(100).薄膜的成分通过控制不同靶的溅射时间来进行调整.
【机 构】
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兰州大学,Research Institute Magnetic Materials
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以交替真空溅射的方法使用成分分别为MnFe2O4与ZnFe2O4的双靶制备了成分变化的系列Mn1-xZnxFe2O4铁氧体薄膜,衬底为Si(100).薄膜的成分通过控制不同靶的溅射时间来进行调整.沉积态的薄膜呈非晶结构,在真空炉中以适当的温度对薄膜进行退火之后能够得到多晶MnZn铁氧体薄膜.组成成分为Mn0.5ZnO.5Fe2O4的薄膜呈现了相对最高的饱和磁化强度.同时还研究了制备条件对薄膜结构与磁性的影响,如溅射氧分压,退火真空度,退火温度及薄膜厚度等等.制备的薄膜相对于块状材料具有较高的矫顽力,进而讨论了应力对薄膜矫顽力的影响.
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