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文章对半导体设备中腔室内的供风结构进行研究,采用数值分析的方法,对供风结构进行流场分析,根据分析的结果对结构进行优化,以达到理想的出风一致性效果。对测试和验证给予定性分析和指导,节约修改结构和复杂测试所消耗的时间和成本,缩短设计周期。
基于多孔介质理论的腔室流场分析
【摘 要】
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文章对半导体设备中腔室内的供风结构进行研究,采用数值分析的方法,对供风结构进行流场分析,根据分析的结果对结构进行优化,以达到理想的出风一致性效果。对测试和验证给予定
【机 构】
：
沈阳芯源微电子设备有限公司
【出 处】
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中国高新技术企业
【发表日期】
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2017年8期
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