Liq/ITO结构表面与界面的AFM和XPS研究

来源 :半导体光电 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dreamagain1986
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采用真空蒸发沉积的方法,在覆盖有ITO膜的玻璃基片上沉积一层Liq。利用原子力显微镜(AFM)对制备的Liq/ITO样品表面进行扫描,发现Liq粉末表现为岛状形态,其表面极不平整,存在大量裂缝和空隙,有许多针孔。用X射线光电子能谱(XPS)研究了Liq/ITO紧密接触的表面和界面电子状态。对样品In3d和Sn3d的电子状态分析也证实了ITo表面沉积Liq膜存在裂缝和针孔,这些裂缝和针孔吸附了空气中大量的气体分子;对Cls谱的分析发现,ITO膜表面存在一定的C污染;对Nls谱分析可知,界面处N原子与O、In
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