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目的
研究纳米二氧化硅(nm-SiO2)对人皮肤表皮细胞系(HaCaT)细胞中聚腺苷二磷酸核糖聚合酶-1(poly[ADP-ribose] polymerase 1，PARP-1)基因的表达及其基因启动子区甲基化的影响。
方法分别以2.5、5.0、10.0 μg/ml的nm-SiO2溶液和10 μg/ml的微米级SiO2(micro-SiO2)溶液处理HaCaT细胞24 h；以3 μmol/L DNA甲基化转移酶抑制剂5-氮杂-2-脱氧胞苷(5-aza-CdR, DAC)处理48 h 10 μg/ml的HaCaT细胞为阳性对照(DAC组)，并设立溶剂对照组(CTRL组)。应用荧光定量聚合酶链式反应(polymerase chain reaction, PCR)和蛋白质印迹法(Western-blot法)检测PARP-1在mRNA水平和蛋白水平的表达变化，应用亚硫酸氢盐测序(bisulfite pyrosequence, BSP)法检测PARP-1基因启动子区CpG岛的甲基化状态。
结果HaCaT细胞暴露nm-SiO2 24 h后，经nm-SiO2处理后，micro-SiO2染毒组和2.5 μg/ml染毒组PARP-1表达与CTRL组的差异无统计学意义(P>0.05)，与CTRL组比较，5、10 μg/ml染毒组及DAC处理组细胞的PARP-1表达下调，差异有统计学意义(P<0.05)，且其下调水平随着浓度的增大而增高。BSP结果显示PARP-1启动子区-229点甲基化状态升高。
结论nm-SiO2可以降低HaCaT细胞中PARP-1基因的表达，可能与其对PARP-1基因启动子区CpG岛的甲基化影响有关。