【摘 要】
：
阐述为研究和实现11代生产线(G11)掩模版的涂胶工艺,验证最佳的旋转涂胶工艺参数.采用正交试验法,以转速、旋转加速度及时间为指标,优选出旋转涂胶的最佳工艺参数组合,并以色差、膜厚及均匀性指标来评价工艺,同时本文利用积分法量化了色差.从而对正交试验最佳涂胶工艺组合和不同组合进行涂胶及蚀刻后线缝、线宽特征值(Critical Dimension,CD)研究,得到最优涂胶工艺组合的膜厚平均值为732.3nm,膜厚均匀性为2.92％;线缝、线宽CD精度偏差分别为69nm和66nm.分析表明,研究证实旋转涂胶的转
【机 构】
：
成都路维光电有限公司研发部,四川 610096
论文部分内容阅读
阐述为研究和实现11代生产线(G11)掩模版的涂胶工艺,验证最佳的旋转涂胶工艺参数.采用正交试验法,以转速、旋转加速度及时间为指标,优选出旋转涂胶的最佳工艺参数组合,并以色差、膜厚及均匀性指标来评价工艺,同时本文利用积分法量化了色差.从而对正交试验最佳涂胶工艺组合和不同组合进行涂胶及蚀刻后线缝、线宽特征值(Critical Dimension,CD)研究,得到最优涂胶工艺组合的膜厚平均值为732.3nm,膜厚均匀性为2.92％;线缝、线宽CD精度偏差分别为69nm和66nm.分析表明,研究证实旋转涂胶的转速ω及时间t对膜厚及均匀性有较大影响,旋转加速度及排风压力对色差及均匀性有影响.通过研究不同膜厚及膜厚均匀性对图形CD精度的影响发现,膜厚偏大或偏小对图形CD精度均有影响,但膜厚的均匀性对图形的CD精度及均匀性影响更大.
其他文献
阐述硅外延片在电阻率和厚度一致性的问题,改善其一致性外延片的制备方法,包括装入衬底片、衬底气相抛光、变流量吹扫、本征生长、外延生长的工艺流程和工艺参数.
阐述建立隐私计算平台或平台联盟,根据具体的信任假设应用场景,采用不同隐私计算方法,建立数据可用不可见、可用可见等授权使用机制与数据溯源机制,实现数据全生命周期管理,支持第三方应用开放,通过传染病智能防控、AI建模全流程与生物信息平台应用案例,探讨平台或联盟具备数据隐私安全计算与应用开放能力.
阐述IGBT的特点、产品分类、产业链、市场应用、竞争格局、面临挑战,从专利数据库提取数据分析了IGBT投资趋势、权利人、技术热点等发展现状.
阐述氮气纯化器为多部份组成设备,对每一组成部分定期维护可提前发现问题,对特定的组成部分做定期保养可降低该组成单元的故障率,提高氮气纯化器的稳定性.
阐述远动控制技术的特点,远动控制技术在电力系统中运用的重要性和的应用优势,包括在通信传输技术、循环数据传输规约技术、信道编码技术、信息采集技术、智能化远程管理中的应用.
阐述图书馆档案信息资源得到了有效开发和利用,助推了高等教育事业的发展,探讨存在的问题,应当积极转变观念,树立创新意识,全面推进档案信息资源共享,加强图书馆阅读推广活动,提高图书馆工作人员综合素养,从而不断提高图书馆档案信息资源的利用效率.
阐述我国军工电子行业的科研单位加强内部协作,提升自主可控能力的重要途径.通过案例分析,探讨内部协作工作的现状和存在的问题,基于科研单位内部配套协作工作,提升自主可控能力的途径,提出要提高和强化自主可控意识,加强顶层谋划,开展需求规划,加强基础投入,建设一体化信息管控平台,促进行业合作,积极参与等措施,有利于推动自主可控工作的开展.
阐述半导体制造过程中的重要设备气体纯化器的发展背景,气体纯化设备的国产化替代历程,存在的问题和应对的策略,从而适应集成电路产业的发展步伐.
阐述煤气化装置中锁斗循环泵运行中的问题,提出优化方案,基于ACS580系列变频器控制特性,实施电气变频改造措施.分析工频、变频情况下的运行数据,验证了变频改造的可行性,从而达到了预期的节能降耗效果.
阐述集成电路产业的人才需求,对人才培养体系、课程体系和实践教学体系中的人才紧缺问题,提出基于产教融合、协同育人的人才培养体系,从而保证我国集成电路产业健康持续发展.