基于渐变AlxGa1-xN缓冲层的透射式GaN光电阴极

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We create a GaN photocathode based on graded AlxGa1?xN buffer layers to overcome the influence of buffer-emission layer interface on the photoemission of transmission-mode GaN photocathodes. A gate-shaped spectral response with a 260-nm starting wavelength and a 375-nm cut-off wavelength is obtained. Average quantum efficiency is 15% and short wavelength responses are almost equivalent to long wavelength ones. The fitted interface recombination velocity is 5×104 cm/s, with negligible magnitude, proving that the design of the graded buffer layers is efficient in obtaining good interface quality between the buffer and the emission layer.
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设计了皮秒激光加工系统,该系统可输出355、532、1064 nm皮秒脉冲激光,单脉冲能量最大1.5 mJ,脉冲宽度9.12 ps。进行了轴向色差补偿设计,轴向焦点补偿最大距离0.4 mm,最小焦斑直径为3 μm,峰值功率密度达0.6×1015 W/cm2。应用该系统,开展了不同波长与不同材料作用的加工实验研究。研究表明,1064 nm皮秒脉冲激光可用于手机屏幕切割,532 nm皮秒脉冲激光可用于光电探测器制作,355 nm皮秒脉冲可用于精细度要求较高的金属类材料加工。
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