【摘 要】
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采用LiF-DyF3为基础熔盐电解质,Dy2O3、Cu2O为电解原料,采用熔盐电解法制备了Dy-Cu中间合金.利用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)及X射线衍射仪(XRD)对电解产物的形貌及物相组成
【机 构】
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江西理工大学材料冶金化学学部,江西赣州341000
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采用LiF-DyF3为基础熔盐电解质,Dy2O3、Cu2O为电解原料,采用熔盐电解法制备了Dy-Cu中间合金.利用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)及X射线衍射仪(XRD)对电解产物的形貌及物相组成进行分析;通过循环伏安法分析Dy(Ⅲ)、Cu(Ⅰ)在钨阴极的电极还原过程.结果 表明,LiF-DyF3(24mol％)-3％ Dy2O3-1％Cu2O体系下,控制温度970℃、电解时间1.0h,可制备Cu-Dy中间合金且合金主要物相为CuDy;当电解过程稳定进行时,相同阴极电流密度下,槽电压的变化较小,而随着阴极电流密度的提高,槽电压逐渐增大,电流效率先升高后降低;在LiF-DyF3(24mol％)熔盐体系内,Dy2O3、Cu2O电极还原过程都是一步完成,Dy(Ⅲ)在钨电极上还原电位在-0.6～-0.4 V附近;Cu(Ⅰ)在钨电极上还原电位在-0.6V附近.
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