罗门哈斯电子材料CMP技术部门推出45nm铜制程用研磨垫

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  半导体化学机械平坦技术领导厂商罗门哈斯电子材料CMP技术部门专为先进45nm铜制程推出超低缺陷效能的最新一款CMP研磨垫-EcoVision4000。 这款研磨垫的创新制程所产生的表面可增加研磨垫与晶圆之间的接触面积,因此得以降低缺陷并提升良率。EcoVision4000已有样品供应,预计今年第四季量产。
  此外,该公司也强调对位于竹南科学园区亚洲制造与技术中心的重视。在营运满周年后,罗门哈斯电子材料CMP技术部门对此中心的运作成绩感到满意,它是除日本外,该公司第一个主要的研磨垫制造厂,在今年年中并扩展成技术中心,预计在2010年人员编制增加到150人以上,以强化对亚洲地区客户的就近服务。
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