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讨论大面积4cm×4cm纳米金刚石膜制备工艺．采用电子辅助-热丝化学气相沉积法（EA-HFCVD）在硅片上沉积纳米金刚石膜．生长过程中，预先加6安培偏流生长1小时，然后在0．8千帕条件下，无偏流生长3小时．原子力镜表征晶粒尺寸为30纳米．样品上任意三点采用原子力镜表征，表现出良好均匀性．采用偏振光椭圆率测量仪和分光计分别表征样品的折射率和透射率．红外波段透过率超过50％．金刚石膜表面分别进行氢化和氧化处理．通过表征，氢化处理后膜比氧化处理后膜对应的γ值大，约为0．45．