超纯硫酸即电子级硫酸是半导体工业八大化学试剂之一,主要用于晶片的清洗和刻蚀,其消耗量排行第三.在半导体元件的生产过程中,晶片的清洗非常重要,几乎每两道工序之间都要进行.在90～125℃的温度范围,硫酸是一种非常有效的清洗剂,它可以从晶片上除去几乎所有无机残留物和颗粒.在硫酸中加入氧化剂(过氧化氢、过硫酸铵、硝酸和臭氧等),可除去碳残余物.因为热硫酸与裸露的晶片表面直接接触,所以它必须尽可能地纯净,特别是当生产最先进的半导体元件时.目前杂质含量的推荐值为＜1×10-9(质量分数),将来有可能要求＜1×10-10(质量分数).rn超纯硫酸采用普通的高浓度发烟硫酸为原料,加热产生SO3气体,SO3气体进一步净化后由超纯硫酸吸收,其产品酸浓度通过超纯水的加量来控制.rn超纯硫酸具有极高的产品附加值.据业内人士统计,1997年全球半导体工业的硫酸消耗量为32000t,销售收入为5200万美元,这表明超纯硫酸的平均价格约为1600美元/t,为工业硫酸的100倍.然而尽管全球半导体市场的年销售额以大约20%的速率增长,化学试剂的消费却没有同步增长,去年仅增长2.5%.据权威人士预测,在将来的几年内,硫酸在半导体工业中的应用有可能减少,这部分是由于环保原因,但主要的是价格原因.半导体工业正在寻求可以代替硫酸的清洗剂,例如仅含有臭氧的蒸馏水,并已取得一定的成功.因此,对任何新建项目都要仔细评估.但也有一些供货商乐观地认为,虽然由于环保、价格等原因,在未来的几年内超纯硫酸的消耗量有可能减少,但是这种影响将被新增的半导体生产能力所抵消.rn(瑾)rn