多弧离子镀Ti—W—N多元多层膜的研究

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采用Ti/W复合靶,用多弧离子镀技术沉积了Ti-W-N多元多层膜,并对其组织结构与性能进行了研究,结果表明:在本试验我元膜的结构形式为(Ti,W)2N最佳多层膜的结构形式为基体/Ti/TiN/(TYiyW1-y)N/(Ti,W)2N,并具有较高的显微硬度和极低的孔隙率,在800℃具有很好的抗氧化性能,在沉积过程中存在着多元合金膜层与复合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关。
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