两种方法制备ITO薄膜的红外特性分析

来源 :光子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：king269

【摘要】

：

比较了用电束加热蒸发法和直流磁控溅射法制备的氧化锡铟(ITO)薄膜在红外波段的光学特性.实验发现,通过直流磁控溅射在常温下制备的ITO薄膜在红外波段折射率稳定、消光系数小

【作者】

：

周平黄昱勇林宇翔李海峰刘旭顾培夫

【机构】

：

浙江大学现代光学国家重点实验室

【出处】

：

光子学报

【发表日期】

：

2002年8期

【关键词】

：

红外特性 ITO薄膜光学特性磁控溅射电子束加热蒸发氧化锡铟薄膜制备方法 ITO thin film Optical properties Magne

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比较了用电束加热蒸发法和直流磁控溅射法制备的氧化锡铟(ITO)薄膜在红外波段的光学特性.实验发现,通过直流磁控溅射在常温下制备的ITO薄膜在红外波段折射率稳定、消光系数小,比电子束加热蒸发制备的膜有较高的透过率.在波长1550nm附近的透过率可达86%以上,消光系数约为0.04,方电阻最低为100Ω/□.

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