0.35μm SiGe BiCMOS隔离深槽表面形貌研究

来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：gy19910192

【摘要】

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针对0.35 μm SiGe BiCMOS工艺,对隔离深槽表面形貌进行了研究.仿真及工艺结果表明,多晶硅回刻残留厚度h2、深槽顶部开口宽度Wtp以及刻蚀掩蔽氧化层残留厚度h3是影响深槽表面

【作者】

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徐婉静朱坤峰杨永晖任芳黄东梁柳红张霞汪璐崔伟

【机构】

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中国电子科技集团公司第二十四研究所,重庆,400060;重庆中科渝芯电子有限公司,重庆,401332;模拟集成电路重点实验室,重庆,400060

【出处】

：

微电子学

【发表日期】

：

2016年3期

【关键词】

：

Deep trench isolation Surface topography 0.35 μm SiGe BiCMOS SiGe HBT

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针对0.35 μm SiGe BiCMOS工艺,对隔离深槽表面形貌进行了研究.仿真及工艺结果表明,多晶硅回刻残留厚度h2、深槽顶部开口宽度Wtp以及刻蚀掩蔽氧化层残留厚度h3是影响深槽表面形貌的主要因素;当h2=220 nm,Wtp=0.7～0.9μm,h3=150～200 nm时,获得了较好的深槽表面形貌,其隔离漏电流小于0.05 nA/μm,可用于0.35 μm SiGe BiCMOS工艺的隔离.

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