【摘 要】
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Fujifilm日前宣布,面对业界大型半导体厂家开始量产45nm生产工艺产品,公司将导入液浸ArF曝光设备,以进一步加大开发力度,扩大业界最尖端ArF用光刻胶业务。2006年该公司领先于
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Fujifilm日前宣布,面对业界大型半导体厂家开始量产45nm生产工艺产品,公司将导入液浸ArF曝光设备,以进一步加大开发力度,扩大业界最尖端ArF用光刻胶业务。2006年该公司领先于其他公司成功开发出用于45nm生产工艺的、无顶涂层的ArF液浸光刻胶-FAiRs-9000系列,并于同年提供产品样
Fujifilm has announced that in the face of the large-scale semiconductor manufacturers in the industry to start mass production of 45nm production process products, the company will introduce liquid immersion ArF exposure equipment to further increase development and expand the industry’s most advanced ArF photoresist business. In 2006, the company was ahead of other companies to successfully develop the top coat-free ArF liquid immersion resist -FAiRs-9000 series for 45nm production process and to provide product samples in the same year
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