智能剥离工艺的热动力学模型

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sunj2009
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
提出了注氢硅片表面借助键合氧化硅片进行剥离的热动力学模型,这种剥离现象是退火过程中氢离子注入区氢气泡横向增长的结果,氢气泡的增长速率依赖于氢复合体分解和氢分子扩散所需的激活能,氢气泡的半径是退火时间,退火温度和注氢剂量的函数,氢气泡的临地径可根据Griffith能量平衡条件来获得,根据氢气泡增长的这一临界条件,获得了不同劈裂温度所需要的剥离时间。
其他文献
首次在国内成功地制作了栅长为70nm的高性能CMOS器件。为了抑制70nm器件的短沟道效应同时提高它的驱动能力,采用了一些新的关键工艺技术,包括3nm的氮化栅氧化介质,多晶硅双栅电
位于长春市东风街历史街区的一汽制造厂,是中国汽车的摇篮.文中主要着重关注其生活区部分(即职工住宅区),通过其单体建筑、单体与单体之间、组团与组团之间的特征,探究该时期的
《义务教育语文课程标准》要求在阅读教学中培养学生自主感悟能力,强调在教师的引导下,通过学生自主阅读,“对课文的内容和表达有自己的心得,能提出自己的看法和疑问,并能运用合作
近年来随着经济不断发展,社会不断进步,国家对民生基础保障方面的关注越来越高,新形势下加快农村社会主义现代化建设,不断提高农村经济发展水平,缩小城乡差距,是当前各级政府
针对Si衬底上生长GaN具有的特有形貌进行了研究,分析采用扫描电镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)等手段,研究了使用AlN作为缓冲层的GaN的生长模式、缺陷形成机
烧水的锅子,装水的热水瓶,里面常常积聚起一层土黄色的水垢,它是怎样生成的?对我们有什么影响,如何除掉它?
根据位错理论建立了Si中纯净及掺杂60°位错模型,利用Recursion方法计算了Si中纯净及掺杂60度位错这种典型环境下的能量和电子结构,由此得出,N,O杂质在位错区比在非位错区更
文章将结合笔者实践经验,对煤矿采掘安全检查以及安全评价方法谈谈自己的几点看法,希望能为促进煤矿采掘安全贡献一份绵薄之力。
随着大规模和超大规模集成电路特征尺寸向亚微米、深亚微米发展 ,下一代集成电路对硅片的表面晶体完整性和电学性能提出了更高的要求 .与含有高密度晶体原生缺陷的硅抛光片相
英语教学中教师应重视英语写作教学,认真研究新教材,指导和组织学生进行英语写作训练,在平时教学中应有计划、有目的地去训练和提高学生的写作能力。