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阐述了ULSI衬底硅单晶片清洗的重要性 ,详尽介绍了目前世界上采用的各种清洗方法 (湿法、干法、兆声、激光等 )的发展概况、应用价值及发展方向 ,并提出晶片清洗的发展趋势将向多元化、综合化和专用化方向发展。
ULSI衬底硅单晶片清洗技术现况与展望
【摘 要】
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阐述了ULSI衬底硅单晶片清洗的重要性 ,详尽介绍了目前世界上采用的各种清洗方法 (湿法、干法、兆声、激光等 )的发展概况、应用价值及发展方向 ,并提出晶片清洗的发展趋势将
【机 构】
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河北工业大学!天津300130,河北工业大学!天津300130,河北工业大学!天津300130,河北省电子厅!石家庄050071
【出 处】
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稀有金属
【发表日期】
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2001年02期
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