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期刊论文
静电封接过程与机理研究
静电封接过程与机理研究
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dsclq
【摘 要】
:
木文主要通过观察加热的硅-玻璃系统在静电场下的电流-时间(I-t)曲线。及其与封接状态的对应关系,用耗尽层和电场力的概念描述了封接的物理过程,讨论了表面状况对封接的影响,
【作 者】
:
罗鸣
赵新安
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1992年8期
【关键词】
:
静电封接法
硅片
玻璃
物理过程
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木文主要通过观察加热的硅-玻璃系统在静电场下的电流-时间(I-t)曲线。及其与封接状态的对应关系,用耗尽层和电场力的概念描述了封接的物理过程,讨论了表面状况对封接的影响,建立了表面粗糙程度与封接电压、材料刚度等参数的制约关系式,给出了可靠封接的余件和完成封接的I-t曲线判据.
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