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本文采用射频磁控溅射法在不同氧氩比下制备氧化铪涂层。研究了涂层的沉积速率、表面形貌、微观结构和电绝缘特性随氧氩比的变化。结果表明用此方法在低活化马氏体钢上制备的氧化铪涂层表面致密、无明显孔洞；低活化马氏体钢为衬底时涂层较易结晶为以单斜相为主的晶体结构；且涂层的绝缘特性受氧氩比影响较大，氧氩比为0．7和1．2下制备的涂层击穿场强小于1MV／cm，电绝缘特性较差，在较低氧氩比下制备的涂层有较理想的绝缘性能。