MPCVD法纳米金刚石膜的制备及分析

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liongliong576
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利用MPCVD方法在玻璃基片上成功的制备了非常光滑、致密均匀的纳米金刚石膜。沉积工分为两步:成核,CH4/H2=3%;生长,O2/CH4/H2=0.3:3:100;沉积过程中保持工作压力为4.0kPa,衬底温度500℃。
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