【摘 要】
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以二水氟化铜(CuF2·2H2O)为靶材,采用磁控溅射薄膜沉积工艺,制备了具有高循环稳定性的氟氧化铜薄膜。研究了工作气压对薄膜形貌、厚度及成分的影响。X射线光电子能谱和
【基金项目】
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国家自然科学基金(21905040),国家重点研发计划(2017YFB0702802)
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以二水氟化铜(CuF2·2H2O)为靶材,采用磁控溅射薄膜沉积工艺,制备了具有高循环稳定性的氟氧化铜薄膜。研究了工作气压对薄膜形貌、厚度及成分的影响。X射线光电子能谱和循环伏安分析结果表明薄膜内部存在Cu-O键和Cu-F键,以及单质铜。0.55 Pa制备的氟氧化铜薄膜主要成分为2.4Cu-1.25CuO-0.5CuF2,50周循环可逆充放电比容量约为340 mAh/g。结果表明,磁控溅射方式能有效降低OH-的比例,实现氟氧化物电极的制备,提高了转化反应电极材料在高比能锂电池中的应用潜力。
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