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采用反应沉积外延法在723K的Si (111)衬底上共沉积了的Ba/Si混合膜,通过时间控制得到不同厚度的混合膜,然后真空退火处理.X射线衍射表明在真空中1073K退火12小时后出现了单一的Ba5 Si3薄膜.采用第一性原理对Ba5 Si3的能带结构进行了计算,带隙宽度为0 eV,表现为金属性质.