【摘 要】
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本文报导射频溅射CoMnNi多成分氧化物薄膜的电阻温度特性,并给出薄膜电阻率与溅射气氛中O_2含量和沉积时间的关系;讨论这种薄膜的退火特性。
In this paper, the resistance
【机 构】
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中国科学院新疆物理所,中国科学院新疆物理所,中国科学院新疆物理所,
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本文报导射频溅射CoMnNi多成分氧化物薄膜的电阻温度特性,并给出薄膜电阻率与溅射气氛中O_2含量和沉积时间的关系;讨论这种薄膜的退火特性。
In this paper, the resistance temperature characteristics of RF sputtering CoMnNi multi-component oxide films are reported. The relationship between the film resistivity and O 2 content and deposition time in sputtering atmosphere is also discussed. The annealing characteristics of the film are discussed.
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