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表面接合后,洗下的残渣,在真空中,用紫外线(波长<220nm),能很好地阻止电子和机械的连接,或者使其不能连接。这些表面包括金属、聚合物和半导体。有机残余物很容易除去。紫外线照射是用来打开结合键,产生挥发的副产品,并使副产品消蚀掉。这一技术可用于真空室中。
After the surface is joined, the washed residue is well protected against electrons and mechanical connections by ultraviolet light (wavelength <220 nm) in a vacuum, or it can not be connected. These surfaces include metals, polymers and semiconductors. Organic residues are easily removed. UV radiation is used to open the bond, produce volatile by-products, and make the by-products eroded away. This technique can be used in a vacuum chamber.
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