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采用Ni诱导结晶的方法在氧化硅衬底上制备多晶SiGe薄膜．通过X射线衍射(XRD)、俄歇电子深度分布谱(AES)等测试方法对获得的多晶SiGe薄膜特性进行了表征，并对退火气氛中氧的存在对非晶SiGe结晶的影响进行了研究．研究表明Ni的参与可以显著降低非晶SiGe薄膜的结晶时间以及结晶温度；退火气氛中氧的存在对非晶SiGe结晶有明显阻碍作用；采用先在高纯N2(99．99％)气氛下快速热退火(RTA)预处理，再在普通退火炉中长时间退火的方法可以明显改善非晶SiGe薄膜的结晶情况．