论文部分内容阅读
采用中频非平衡磁控溅射沉积工艺，并施加霍尔离子源辅助沉积，在高速钢W18Cr4V及单晶硅基体上制备了梯度过渡的DLC/TiAlN复合薄膜。利用扫描电镜（SEM）、X射线光电子能谱仪（XPS）、显微硬度计、摩擦磨损仪等分析检测仪器对DLC／TiAlN复合薄膜的表面形貌、晶体结构、显微硬度、耐磨性等性能进行了检测分析。实验及分析结果表明：DIC/TiAlN薄膜平均膜厚为1.1μm，由于薄膜中的灿含量较多，使得复合薄膜的表面比DLC薄膜的表面要粗糙一些；通过对复合薄膜表层的XPS分析可知，ID／IG为2.63。