【摘 要】
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使用场发射扫描电子显微镜（SEM）观察CGO硅钢制备过程中第二相粒子的析出行为及分布状态,统计粒子的平均尺寸、面密度及Zener因子。结果表明:试样中主要存在两种析出物,一种是（Cu
【机 构】
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北京科技大学钢铁共性技术协同创新中心,北京科技大学冶金工程研究院,北德克萨斯州大学材料科学与工程学院
【基金项目】
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中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(新教师基金TP-A3类,FRF-TP-15-063A3);US Army Research Laboratory(ARL)(ARLBAA_W911NF-12-R-0011-03-Mod_26MAR15)
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使用场发射扫描电子显微镜（SEM）观察CGO硅钢制备过程中第二相粒子的析出行为及分布状态,统计粒子的平均尺寸、面密度及Zener因子。结果表明:试样中主要存在两种析出物,一种是（Cu,Mn）S复合析出物,尺寸为1μm左右,称为A类析出物,另一种是Cu2S析出物,尺寸为1030nm,称为B类析出物,Cu2S起主要抑制作用。第二相粒子在热轧阶段大量弥散析出,平均粒子尺寸最小,面密度最高,高温退火前的加工阶段,粒子的平均尺寸不断增加,面密度逐渐降低;高温退火过程中,随着析出物体积分数的降低,其抑制能力呈下降趋势,960℃时析出物发生明显的聚集现象,当Zener因子A低于临界值0.19nm-1时,二次再结晶发生,残留的粒子不会产生有效的抑制作用。
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