【摘 要】
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论述曝光面积达３５６ｍｍ×３５６ｍｍ，套刻精度为±２μｍ，接近式（０～２５１μｍ）液晶显示面版光刻机的新型工作台设计。
Discusses the design of a new stage with an exposure area of 356mm × 356mm and
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论述曝光面积达３５６ｍｍ×３５６ｍｍ，套刻精度为±２μｍ，接近式（０～２５１μｍ）液晶显示面版光刻机的新型工作台设计。
Discusses the design of a new stage with an exposure area of 356mm × 356mm and an overlay accuracy of ± 2μm and a near (0 ~ 251μm) liquid crystal display panel lithography machine.
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