为探究镉胁迫下抗氰呼吸（交替途径）对植物体的保护作用和可能存在的作用机制,以菜豆幼苗为研究材料,探讨了在镉胁迫对菜豆叶片抗氰呼吸、抗氧化和光系统Ⅱ（PS II）光合特性的影响,以及抗氰呼吸对PS II的影响是否与其参与抗氧化调节作用有关。结果表明:随镉处理浓度的增加,菜豆叶片抗氰呼吸能力和抗氧化酶[过氧化氢酶（CAT）、过氧化物酶（POD）、抗坏血酸过氧化物酶（APX）、超氧化物歧化酶（SOD）]活性以及过氧化氢（H₂O₂）含量呈现先升高后降低趋势,而超氧阴离子自由基(O₂^·-)则逐渐显著上升;同时,菜豆幼苗叶片Fv’/Fm’（光适应下PSⅡ最大光化学效率）、Y（Ⅱ）（PSⅡ实际光化学效率）和qP（光化学淬灭系数）、ETR（PSⅡ光合电子传递速率）下降,而叶片非光化学荧光猝灭系数（NPQ）则上升。非镉胁迫条件下,叶面分别喷施H₂O₂、O₂^·-消除剂或抗氰呼吸抑制剂未对上述所测叶绿素荧光参数造成不良影响,且H₂O₂消除剂的施加使得qP和ETR显著提高。在镉胁迫下,叶面分别喷施H₂O₂或O₂^·-消除剂有效缓解了镉导致的PS II光化学活性的降低,而抗氰呼吸的抑制剂的施加则造成了镉胁造成的PSⅡ光化学活性的进一步下降和H₂O₂和O₂^·-含量的进一步提高,并导致了CAT、POD、APX抗氧化酶活性水平的降低。上述研究结果表明,在镉胁迫下抗氰呼吸可有效缓解镉胁迫导致的菜豆幼苗叶片活性氧的过量积累和抗氧化酶的活性的上升以及PS II光化学活性的下降;且抗氰呼吸对PS II的保护作用可能与其调节抗氧化的功能有关。