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工艺因素对3Cr2W8V和4Cr5MoV1Si钢低温电解渗硼的影响
工艺因素对3Cr2W8V和4Cr5MoV1Si钢低温电解渗硼的影响
来源 :中国表面工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jujumao222
【摘 要】
:
本文研究了工艺因素对3Cr2W8V和4Cr5MoV1Si钢低温电解渗硼过程的影响,着重讨论了电流密度所起的作用,并指出电流密度过大产生的阳极效应可能导致采用大电流密度时渗硼层厚度下
【作 者】
:
许其亮
史文华
汪涛
【机 构】
:
西安冶金建筑学院,西安冶金建筑学院
【出 处】
:
中国表面工程
【发表日期】
:
1991年4期
【关键词】
:
渗硼层
3CR2W8V
CR5MO
工艺因素
电流密度
大电流
厚度
低温电解
阳极效应
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本文研究了工艺因素对3Cr2W8V和4Cr5MoV1Si钢低温电解渗硼过程的影响,着重讨论了电流密度所起的作用,并指出电流密度过大产生的阳极效应可能导致采用大电流密度时渗硼层厚度下降的主要原因之一。文中给出了低温电解渗硼的应用实例。
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