用激光化学蒸汽淀积法生长大的单晶尖

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文中的照片表示在一块硅基片上用激光化学蒸汽淀积法(LCVD)生长的钨单晶尖,它是用扫描电子显微镜拍得的。该晶尖高度大约为120微米,宽50微米。据南加利福尼亚大学激光研究中心的艾伦(S. Allen)说,激光化学蒸汽淀积法以前就用来生长多晶体晶尖,但是,观测到如此大的单晶结构还是首次。 The photograph shows a tungsten single crystal tip grown on a silicon substrate by laser chemical vapor deposition (LCVD), which is taken with a scanning electron microscope. The crystal tip height is about 120 microns wide and 50 microns wide. According to S. Allen, of the University of Southern California's Center for Laser Research, laser chemical vapor deposition has previously been used to grow polycrystalline crystal tips, but it is the first time that such a large single crystal structure has been observed.
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