全息片质量对原子全息光刻图形影响的模拟研究

来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhoubin506

【摘要】

：

全息片质量是影响原子全息光刻再现图形质量的关键因素,然而其制作工艺复杂,工序繁多,质量难以控制,模拟研究有助于把握全息片制作工艺中的关键环节,提高全息片的质量.详细模

【作者】

：

石建平陈旭南陈献忠高洪涛陈元培秦涛

【机构】

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中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

【出处】

：

微细加工技术

【发表日期】

：

2003年3期

【关键词】

：

全息片质量原子全息光刻刻透率分辨力薄膜厚度原子波包全息再现 atom hologram lithography(AHL) atomic wave r

【基金项目】

：

中国科学院知识创新工程项目

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全息片质量是影响原子全息光刻再现图形质量的关键因素,然而其制作工艺复杂,工序繁多,质量难以控制,模拟研究有助于把握全息片制作工艺中的关键环节,提高全息片的质量.详细模拟了全息片的三个主要质量指标:刻透率、分辨力以及薄膜厚度对再现像质的影响,结果表明:刻透率控制在90%左右即可满足要求,分辨率应优于0.1μm,膜层应尽量均匀.

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