论文部分内容阅读
一超离频真空化学药品蒸汽免职(UHV/CVD ) 系统被开发,它的构造和操作的细节被报导。用高纯净 SiH4 和 GeH4 反应物气体, Si0.82Ge0.18 层在 550 ℃被扔。与由两倍水晶 X 光检查衍射(DCXRD ) 的大小,传播电子显微镜学(TEM ) 和卢 backscattering spectroscppy (RBS ) 技术, SiGe 层的水晶的质量好,这被显示出,并且内在的 SiGe/Si 异种接口严厉地被定义。