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脉冲激光沉积制膜(PLD)是近年来迅速发展起来的制膜新技术,首先简要介绍了脉冲激光沉积技术的原理、特点和优势以及在磁性功能薄膜研究中的应用,最后说明了该技术的最新发展趋势.
脉冲激光沉积技术在磁性薄膜制备中的应用
【摘 要】
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脉冲激光沉积制膜(PLD)是近年来迅速发展起来的制膜新技术,首先简要介绍了脉冲激光沉积技术的原理、特点和优势以及在磁性功能薄膜研究中的应用,最后说明了该技术的最新发展
【机 构】
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华中科技大学电子科学与技术系
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2003年2期
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