AZ~ 15nXT Photoresist for Lift-off Applications

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AZ15nXT is a chemically-amplified negative-tone thick film photoresist.The resist has vertical profile and is widely used for redistribution layer(RDL)and through silicon vias(TSV)applications.For lift-off applications,however,the inverted profile is needed.In this paper,we report the effects of process conditions on the resist profile and process window for lift off applications. AZ15nXT is a chemically-amplified negative-tone thick film photoresist. Resist has vertical profile and is widely used for redistribution layers (RDL) and through silicon vias (TSV) applications. FOR lift-off applications, however, the inverted profile is needed. this paper, we report the effects of process conditions on the resist profile and process window for lift off applications.
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