【摘 要】
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目的研究基于等离子体增强气相化学沉积（PECVD）制备多孔SiOx薄膜的方法。方法以六甲基二硅氧烷（HMDSO）为单体,并通入氧气、氩气,再加入少量的有机物质,通过辉光放电的方式形成等
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目的研究基于等离子体增强气相化学沉积（PECVD）制备多孔SiOx薄膜的方法。方法以六甲基二硅氧烷（HMDSO）为单体,并通入氧气、氩气,再加入少量的有机物质,通过辉光放电的方式形成等离子体,从而在玻璃基材表面沉积,制备出氧化硅薄膜,再在高温下进行热处理,使氧化硅薄膜中的碳氢键等有机组分被除去,形成孔隙。研究单体与氧气的比例、沉积时间、沉积功率等实验条件对沉积率、形貌、结构以及折射率的影响。结果当放电时间为10 min,放电功率为50 W,氧气与单体的体积比为1︰6时,薄膜沉积速率达到最优值,为14.6
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