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利用有限元分析理论和模态分析理论，分析了高分辨光刻机主基板的动态特性，分析结果表明主基板结构设计合理。结合模态试验，验证了主基板有限元模型的正确性。利用该有限元模型，进行了灵敏度分析，还进一步实现了主基板结构的优化设计。
光刻机主基板的动态特性分析及优化
【摘 要】
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利用有限元分析理论和模态分析理论，分析了高分辨光刻机主基板的动态特性，分析结果表明主基板结构设计合理。结合模态试验，验证了主基板有限元模型的正确性。利用该有限元模型，进
【机 构】
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华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室,上海微电子装备有限公司国家光刻设备工程技术研究中心
【出 处】
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中国机械工程
【发表日期】
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2007年21期
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