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CMP设备兆声清洗原理及应用
CMP设备兆声清洗原理及应用
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wylalone
【摘 要】
:
从空化作用和声波流作用两方面对兆声清洗的物理原理进行深入分析,研究了兆声频率及功率对空化强度、边界层厚度、声波流速等关键因素的影响,从而阐明兆声波清洗的特点及其适
【作 者】
:
史霄
郭春华
杨师
熊朋
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2015年11期
【关键词】
:
兆声波清洗
兆声频率
化学机械平坦化
后清洗
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从空化作用和声波流作用两方面对兆声清洗的物理原理进行深入分析,研究了兆声频率及功率对空化强度、边界层厚度、声波流速等关键因素的影响,从而阐明兆声波清洗的特点及其适用场合。同时以AMAT公司的设备为例,介绍了兆声波清洗在CMP后清洗中的实际应用案例。
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