Cu-CMP相关论文
分析了带有羟基和双胺基的有机碱在Cu-CMP过程中的化学作用.为得到抛光液的最佳配比,在给定的实验条件下对铜进行抛光实验,得到了......
坐落在苏州高新区环保产业同的苏州纳迪微电子有限公司通过自主创新，研制开发出了一系列科技含量极高的微电子化工材料，其中“电子级......
本文介绍的Cu-CMP实验中的磨料粒子是纳米硅溶胶(SiO2,20～30 nm).为得到高质量、高平整度的铜表面,采用SiO2溶胶抛光液对铜进行抛光......
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随着半导体技术的不断发展,集成电路的互连线尺寸不断减小,Cu-CMP已经成为深亚微米工艺中的的重要技术。本文主要分析了Cu-CMP后Cu......
