【摘 要】
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采用全息－离子束刻蚀微细加工技术在石英基板上成功地刻蚀出了１２００线／ｍｍ、闪耀角５°１０’的锯齿槽形闪耀光栅．对全息光刻、显影等掩模制作工艺和离子束刻蚀参数的控制等进行了讨论，还给出了
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采用全息－离子束刻蚀微细加工技术在石英基板上成功地刻蚀出了１２００线／ｍｍ、闪耀角５°１０’的锯齿槽形闪耀光栅．对全息光刻、显影等掩模制作工艺和离子束刻蚀参数的控制等进行了讨论，还给出了在同步辐射光化学光束线上的测试结果．
A sawtooth-shaped blazed grating with 1200 lines / mm and a blaze angle of 5 ° 10 ’was successfully etched on a quartz substrate by a holographic-ion beam etching microfabrication technique. Holographic lithography, development and other mask making process and ion beam etching parameters such as control are discussed, but also given the synchrotron radiation photochemical beamline test results.
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