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用磁控溅射法制备六角氮化硼薄膜，在衬底温度、衬底偏压、工作气压等条件一定的情况下改变工作气体（氮气＋氩气）中氮气的比例，以制备高质量的六角氮化硼薄膜，薄膜以红外吸收光谱标识。实验结果表明，工作气体中氮气的比例对制得的六角氮化硼薄膜有很大影响，在氮气比例为20％时得到理想的六角氮化硼薄膜。
氮化硼薄膜的红外光谱研究
【摘 要】
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用磁控溅射法制备六角氮化硼薄膜，在衬底温度、衬底偏压、工作气压等条件一定的情况下改变工作气体（氮气＋氩气）中氮气的比例，以制备高质量的六角氮化硼薄膜，薄膜以红外吸收光谱标识
【机 构】
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北京工业大学应用数理学院,兰州大学物理学院,北京工业大学材料学院
【出 处】
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光散射学报
【发表日期】
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2008年1期
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