【摘 要】
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采用循环伏安法在PrCl3＋K3Fe（CN）6溶液中于石墨电极表面电沉积铁氰化镨（PrHCF）薄膜,制备PrHCF修饰电极。对该修饰电极电化学的行为进行分析,包括扫描速度、K＋浓度以及阴、阳离子对
【机 构】
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华南农业大学理学院应用化学系,湖南大学化学生物传感与化学计量学国家重点实验室
【基金项目】
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本文系湖南大学化学生物传感与化学计量学国家重点实验室开放基金（No.2007011）,广东省教育厅高校优秀青年创新人才培育项目资助
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采用循环伏安法在PrCl3＋K3Fe（CN）6溶液中于石墨电极表面电沉积铁氰化镨（PrHCF）薄膜,制备PrHCF修饰电极。对该修饰电极电化学的行为进行分析,包括扫描速度、K＋浓度以及阴、阳离子对膜电极的影响。同时,以红外和XPS对膜进行了表征,IR谱图中氰基的伸缩振动峰证明了膜的存在;而XPS谱图中Fe2p1/2和Fe2p3/2能级的分裂说明了在成膜过程中Fe的价态发生变化,据此提出了可能的电聚合机理。同时,此修饰电极对半胱氨酸具有电催化氧化活性,并对其响应进行了研究。
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