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矩形平面磁控溅射装置中存在着诸如磁场，电场，气压，靶材，基片温度及速度，几何结构等参数间的相互影响，并且最终决定了沉积薄厝的性能，为了方便矩形平面磁控溅射装置的设计，就如下参数进行探讨；磁感应强度手设计与计算，电压，电流和气压的关系；基片温度及速度；膜厚均匀度。
矩形平面磁控溅射装置若干参数的探讨
【摘 要】
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矩形平面磁控溅射装置中存在着诸如磁场，电场，气压，靶材，基片温度及速度，几何结构等参数间的相互影响，并且最终决定了沉积薄厝的性能，为了方便矩形平面磁控溅射装置的设计，就如下参数
【机 构】
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东北大学机械工程学院
【出 处】
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真空与低温
【发表日期】
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1996年2期
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