【摘 要】
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工艺偏差在更加先进的工艺节点上别的尤为重要；最初使用工艺偏差方法学（on—chipvariation，OCV）使用一个系数因子在整条时序路径上放大缩小来模仿工艺变化，这种方法学过于悲观；先进
【机 构】
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上海大学微电子研究与开发中心,上海大学机电工程与自动化学院
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工艺偏差在更加先进的工艺节点上别的尤为重要；最初使用工艺偏差方法学（on—chipvariation，OCV）使用一个系数因子在整条时序路径上放大缩小来模仿工艺变化，这种方法学过于悲观；先进的片上误差方法学（advanced ocv，AOCV）可以在不同的时序路径上不同的逻辑深度添加不同的系数因子来模拟工艺误差；但是这种方法学分析的时间太长，消耗的内存太多，并且分析的场景出现的概率很低；介绍一种在16nm下最新的一代时序分析技术一统计学片上误差分析（statisticoev，SOCV）；SOCV能够模拟某
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